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ADEV微量氧分析儀在半導體行業(yè)的校準應用|埃登威自動化系統(tǒng)設備（上海）有限公司

ADEV微量氧分析儀在半導體行業(yè)的校準應用

一、引言

在半導體行業(yè)中，氣體的純凈度對于產(chǎn)品質量和生產(chǎn)工藝的穩(wěn)定性至關重要。其中，微量氧氣的存在可能會對半導體材料的性質和性能產(chǎn)生重大影響。因此，**測量氣體中的微量氧含量成為半導體生產(chǎn)過程中的重要環(huán)節(jié)。ADEV微量氧分析儀正是為滿足這一需求而設計的高精度儀器。為確保其測量準確性和穩(wěn)定性，定期的校準工作不可或缺。ADEV微量氧分析儀在半導體行業(yè)的校準應用

二、校準內(nèi)容

濃度零點校準：

微量氧分析儀的濃度零點是其測量的下限，一般情況下默認為00.1ppm。實際上，**的0是很難達到的，因此通常采用濃度非常低的氣體作為標準。
在校準過程中，采用高純氬或高純氮，其氧濃度小于1.0PPM，作為濃度零點氣。
通入微量氧分析儀中，調整濃度零點到00.1PPM。ADEV微量氧分析儀在半導體行業(yè)的校準應用

濃度量程校準：

微量氧分析儀的濃度量程是其測量的上限，一般默認為21.0%（空氣）。
量程與零點的差異越小，儀器的線性度越好。用戶可以根據(jù)自己的工況來確定合適的濃度量程。
通入微量氧分析儀中，調整濃度量程到需要的示數(shù)。

三、誤差范圍與校準重要性ADEV微量氧分析儀在半導體行業(yè)的校準應用

微量氧分析儀的誤差范圍是指在特定工作條件下，其測量值與實際值之間的*大允許偏差。為確保微量氧分析儀的準確性和可靠性，必須注意其正確安裝和使用，并定期進行校準和調整。特別是在半導體行業(yè)，對氣體純度的要求極為嚴格，任何微小的誤差都可能導致產(chǎn)品質量的下降或生產(chǎn)工藝的不穩(wěn)定。

四、結論

ADEV微量氧分析儀在半導體行業(yè)的應用中，不僅提供了高精度的測量，而且通過定期的校準，確保了測量結果的穩(wěn)定性和準確性。這對于半導體生產(chǎn)過程中的質量控制和工藝穩(wěn)定性至關重要。通過本文介紹的校準方法，用戶可以輕松地完成儀器的校準工作，為半導體的生產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)支持。

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